电阻率测量技术研究The Study of Techniques of Measuring Resistivity
谢莉莉,汪鹏
摘要(Abstract):
通过对测量半导体样品电阻率的四探针法的介绍,详细讨论了常规四探针法、双电测四探针法和范德堡法的测量方法,并给出了相应计算电阻率的公式和直排四探针法厚度修正公式,同时也对图像识别技术和电阻抗成像技术在电阻率测量中的应用进行了展望。
关键词(KeyWords): 电阻率;四探针法;范德堡法;图像识别;电阻抗成像技术
基金项目(Foundation):
作者(Author): 谢莉莉,汪鹏
参考文献(References):
- [1]吴德馨,钱鹤,叶甜春.现代微电子技术[M].北京:化学工业出版社,2002.
- [2]SUNYC,SHI J S,MENGQH.Measurement of sheet resistance of cross microareas usinga modified Vander Pauwmethod[J].Semiconductor Sci&Tech,1996,11:805-811.
- [3]孙以材,范兆书,孙新宇.电阻率两种测试方法间几何效应修正的相关性[J].半导体技术,2000,25:38-41.
- [4]宿昌厚,鲁效明.双电测组合法测试半导体电阻率的研究[J].半导体学报,2003,3.
- [5]宿昌厚,鲁效明.论四探针法测试半导体电阻率时的厚度修正[J].计量技术,2005.,8.